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300576
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| 電路板油墨 | 光刻膠 | 特種油墨 |
1.特別說(shuō)明:
具體型號(hào)說(shuō)明書及相關(guān)檢測(cè)報(bào)告請(qǐng)前往下載中心下載。
2.應(yīng)用領(lǐng)域:
集成電路領(lǐng)域的具體應(yīng)用包括：集成電路芯片制作（涉及金屬層、鈍化層、離子注入層的光刻）；集成電路先進(jìn)封裝等。
3. 技術(shù)參數(shù):
集成電路用光刻膠主要技術(shù)參數(shù)：
集成電路用光刻膠系列主要包括： RD-4000、RD-6000等系列，不同系列光刻膠的主要技術(shù)參數(shù)如下：
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序號(hào) |
產(chǎn)品序列 |
主要參數(shù) |
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1 |
RD-4000系列 |
水分：<0.5%；顆粒(0.5um顆粒，個(gè)/ml)：<100；痕量金屬(K、Na、Fe，ppb）：<50；膜厚：1.0~4.5um；分辨率：0.4um(i-line曝光)
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2 |
RD-6000系列 |
水分：<0.5%；顆粒(0.5um顆粒，個(gè)/ml)：<100；痕量金屬(K、Na、Fe，ppb）：<100；膜厚：3.0~15um；分辨率：0.65um(i-line曝光)
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集成電路用光刻膠主要技術(shù)參數(shù)：
集成電路用光刻膠系列主要包括： RD-4000、RD-6000等系列，不同系列光刻膠的主要技術(shù)參數(shù)如下：
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序號(hào) |
產(chǎn)品序列 |
主要參數(shù) |
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1 |
RD-4000系列 |
水分：<0.5%
顆粒(0.5um顆粒，個(gè)/ml)：<100
痕量金屬(K、Na、Fe，ppb）：<50
膜厚：1.0~4.5um
分辨率：0.4um(i-line曝光)
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2 |
RD-6000系列 |
水分：<0.5%
顆粒(0.5um顆粒，個(gè)/ml)：<100
痕量金屬(K、Na、Fe，ppb）：<100
膜厚：3.0~15um
分辨率：0.65um(i-line曝光)
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